0.4mT工频磁场对CHL细胞微丝装配的影响

• 作 者: 褚克平 蔡知音 张玉焜 夏若虹
• 机 构: 华东师范大学光谱学与波谱学教育部重点实验室
• 出 处: 中国辐射卫生
• 发表日期: 2007年3期
• 关键词: 工频磁场 CHL细胞 F-ACTIN 应力纤维 表皮生长因子受体 Power Frequency Magnetic FieldCHL CellFactinStr
• 基金项目: 教育部留学回国人员基金资助项目

目的 探讨0.4mT工频磁场对中国仓鼠肺成纤维细胞(CHL)微丝(F-actin)装配的影响及作用机制.方法 用免疫荧光染色法标记F-actin,激光共聚焦荧光显微镜观察F-actin形态并拍照,用Western-blotting方法检测了与去垢剂不可溶的细胞骨架相连的表皮生长因子受体(EGFR)蛋白的含量.结果 0.4 mT工频磁场辐照CHL细胞30min导致细胞F-actin应力纤维减少,在细胞周边出现丝状伪足,磁场对CHL细胞F-actin形态的影响与细胞经50nmol/L的表皮生长因子(EGF)作