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化学气相沉积（CVD）单晶金刚石是近年来金刚石领域研究焦点之一，在众多合成方法中，微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）是诸多学者公认的稳定生长均匀高质量单晶金刚石最有前途的技术。近年来，MPCVD合成单晶金刚石在质量、速率、尺寸以及应用上取得了重大的进展，但是目前仍然有一个问题需要解决，即如何在保证质量的前提下大幅度提高单晶金刚石的生长速率。本文对CVD单晶金刚石过程中衬底的选择、表面加工与处理、基座的结构和沉积参数的选择进行了详细评述，并简要介绍了CVD单晶金刚石国内外研发成果。