【摘 要】
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A pre-ohmic micro-patterned recess process,is utilized to fabricate Ti/Al/Ti/TiN ohmic contact to an ultrathin-barrier(UTB)AlGaN/GaN heterostructure,featuring a significantly reduced ohmic contact resistivity of 0.56Ω·mm at an alloy temperature of 550℃.Th
【机 构】
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KeyLaboratoryofMicroelectronicDevices&IntegratedTechnology,InstituteofMicroelectronics
【基金项目】
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supported by National Natural Science Foundation of China under Grant 61822407,Grant 62074161,and Grant 11634002,in part by the Key Research Program of Frontier Sciences,Chinese Academy of Sciences(CA
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A pre-ohmic micro-patterned recess process,is utilized to fabricate Ti/Al/Ti/TiN ohmic contact to an ultrathin-barrier(UTB)AlGaN/GaN heterostructure,featuring a significantly reduced ohmic contact resistivity of 0.56Ω·mm at an alloy temperature of 550℃.Th
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