【摘 要】
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应用包埋前免疫电镜PAP双标技术,对大鼠下丘脑正中隆起内的神经紧张素(neurotensin,NT)和P物质(substance P,SP)的分布进行了超微结构研究。先用DAB法显示SP免疫反应,然后用
【机 构】
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同济医科大学解剖学教研室,同济医科大学解剖学教研室武汉430030,武汉430030,武汉430030
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应用包埋前免疫电镜PAP双标技术,对大鼠下丘脑正中隆起内的神经紧张素(neurotensin,NT)和P物质(substance P,SP)的分布进行了超微结构研究。先用DAB法显示SP免疫反应,然后用钼酸-TMB法显示NT免疫反应,再经DAB-氯化钴稳定后作免疫电镜包埋。电镜观察发现:在正中隆起内SP免疫反应呈电子密度高的颗粒状或絮状沉淀,广泛分布于轴突内的小清亮囊泡周围和基质内;NT免疫反应产物则为电子密度高的针状或块状,散在分布于胞体、树突和轴突内。含SP的轴突可接受免疫反应阴性轴突的传入性突触,也
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