Al/TiN/Ti多层金属化在微波器件中的应用研究

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在双极型微波器件3DG44、3DG86上采用了新型金属化Al/TiN/Ti系统.研究了多种热电应力下TiN的阻挡特性,结果显示采用TiN层的器件抗热电迁徙能力显著提高,加速寿命为原器件的3倍多。AES分析表明原器件失效机理为Al、Si互扩散,致使EB结退化.而采用TiN阻挡层的器件发射区中未发现Al离子,TiN有效阻止了Al、Si的互扩散,提高了界面稳定性。
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