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文章主要介绍了用MCVD工艺及溶液掺杂法制备掺Yb3+双包层结构石英光纤的优化设计、原理及制作工艺.制作出Yb3+掺杂浓度高(吸收损耗在976 nm时为2～10 dB/m)、本底损耗低(在1.3 μm时为10 dB/km)的掺Yb3+双包层结构石英光纤.
掺镱双包层结构石英光纤的优化设计及制作
【摘 要】
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文章主要介绍了用MCVD工艺及溶液掺杂法制备掺Yb3+双包层结构石英光纤的优化设计、原理及制作工艺.制作出Yb3+掺杂浓度高(吸收损耗在976 nm时为2～10 dB/m)、本底损耗低(在1.3
【机 构】
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信息产业部电子第四十六研究所
【出 处】
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光通信研究
【发表日期】
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2003年6期
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