SiGe／Si应变层超晶格的结构和光散射特性

• 作 者: 黄大鸣 刘晓晗
• 机 构: 复旦大学物理系和应用表面物理国家重点实验室
• 出 处: 光散射学报
• 发表日期: 1996年2期
• 关键词: SIGE/SI 超晶格 拉曼散射 结构稳定性
• 基金项目: ofF．etal．Phys．Rev．B，1987，35（6）：2808AlsoseeHeJ，RouhaniBD，SaprielJ．Phys．Rev．B，1988，37：4086［9］LeviD，ZhangSL，KleinMVetal．Phys．Rev．B，1987，36（15）：8032AlsoseeJuserB，AlexandreF，PaquetDetal．Appl．Phys．Let．，1985

ＳｉＧｅ／Ｓｉ应变层超晶格是一种亚稳态结构，在高温下，原子互扩散导致异质界面展宽，同时，由晶格失配引起的应变会发生弛豫，这两种现象将导致晶格结构的变化。本文证明，利用拉曼散射光谱可以定量地反映这一变化。（１）我们首先把界面峭超晶格中折叠纵声学（ＦＬＡ）声子的色散关系和散射强度的理论计算推广到界面展宽的情形，然后，我们分析了测量得到的在不同温度下退火的超晶格样品的ＦＬＡ声子散射谱，通过测量和计算的结