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本文描述了在埋层氧化物上制备超薄Si膜的离子注入技术,并概述了这种优质材料在器件设计中的应用。
SIMOX技术的现状
【摘 要】
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本文描述了在埋层氧化物上制备超薄Si膜的离子注入技术,并概述了这种优质材料在器件设计中的应用。
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1991年4期
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