Ohmic Contact Formation for n+4H-SiC Substrate by Selective Heating Method Using Hydrogen Radical Ir

来源 :材料科学与化学工程(英文) | 被引量 : 0次 | 上传用户：sailer

【摘要】

：

We developed an apparatus for producing high-density hydrogen plasma. We confirmed that the temperatures of transition-metal films increased to above 800?C with

【作者】

：

Tetsuji Arai Kazuki Kamimura C

【机构】

：

InterdisciplinaryGraduateSchoolofMedicineandEngineering,SSTInc.,FujiElectricCo.

【出处】

：

材料科学与化学工程(英文)

【发表日期】

：

2017年1期

【关键词】

：

SELECTIVE Heating Nickel SILICIDE Electrode HYDROGEN Plasma Ohmic Contact SiC Se

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We developed an apparatus for producing high-density hydrogen plasma. We confirmed that the temperatures of transition-metal films increased to above 800?C within 5 s when they were exposed to hydrogen plasma formed using the apparatus. We applied this ph

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