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应用磁控共溅射技术和后退火方制备了GaAs/SiO2细小纳米颗粒镶嵌薄膜，并分别应用原子力显微镜、X射线衍射和卢瑟福背散射实验来观测薄膜的形貌、相结构和化学组分。结果表明GaAs/SiO2纳米颗粒的平均直径很小（约为1.5～3.2nm），且均匀地分布于SiO2之中，薄膜中的GaAs和SiO2组分都符合化学计量关系。应用脉冲激光高斯光束对薄膜的光学非线性进行了Z扫描测试和分析。结果表明，薄膜的三阶光学非线性折射系数和非线性吸收系数都由于量子限制效应而大大地增强，在非共振条件下，它们分别约为4×10