采用BCB平整技术的高速850nm垂直面发射激光器

• 作 者: 何晓颖 董建 胡帅 何艳 吕本顺 栾信信 李冲 胡安琪 胡宗
• 机 构: 北京邮电大学电子工程学院,北京工业大学信息学部
• 出 处: 中国光学
• 发表日期: 2018年2期
• 关键词: 垂直腔面发射激光器 高速调制 苯并环丁烯平整技术 vertical-cavity surface-emitting laserhigh-speed modula
• 基金项目: 国家自然科学基金资助项目(No.61335004,No.61675046,No.61505003),国家重大研发计划(No.2016YFB0400603,No.2017YFB0400902,No.2017YFF0104801)

垂直腔面发射激光器因其具有低阈值、低功耗、可实现高速调制等优势,广泛地应用于光通信和光互连等领域。寄生电容是影响激光器的调制带宽的主要因素之一。本文通过采用低k值的苯并环丁烯(BCB)平整技术有效地降低了垂直腔面发射激光器的寄生电容。详细研究了BCB平整技术的最优工艺参数,为未来高速垂直腔面发射激光器的制造技术提供参考。低k值BCB平整垂直腔面发射激光器在7μm氧化孔径下3 dB小信号调制带宽可达15.2 GHz。