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期刊论文
磁控溅射靶磁场的分布
磁控溅射靶磁场的分布
来源 :华中理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:leafxzc
【摘 要】
:
用麦克斯韦方程,推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式,并研究了靶磁场的三维分布规律,得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分量,边缘有较强的垂直分量的结果,计算结果与实
【作 者】
:
胡作启
李佐宜
【机 构】
:
固体电子学系
【出 处】
:
华中理工大学学报
【发表日期】
:
1997年11期
【关键词】
:
磁控溅射
磁场
刻蚀
半导体器件
magnetron sputtering
magnetic field calculation
3D distributi
【基金项目】
:
国防科工委八五预研项目
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用麦克斯韦方程,推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式,并研究了靶磁场的三维分布规律,得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分量,边缘有较强的垂直分量的结果,计算结果与实验结果相符。
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