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本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究。采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察。结果表明,氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响。在CH4/H2恒定时（0.8%）,硬质合金基体上制备的金刚石薄膜表面形貌随Ar流量增加而变化的规律,即从以（111）八面体晶面为主→（111）和（100）立方八面体混杂晶面→以（100）立方体晶面为主→菜花状的顺序转变;当Ar流量为420～700mL/min时,金刚石晶粒的平均