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利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜．表面磁光克尔效应研究表明：冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性，退火处理的Ni薄膜为铁磁性质，且无退火处理的Ni金属膜磁性随膜厚的增加而增强．分析认为，冷基底条件下Ni膜是非晶态生长，且膜内存有大量缺陷，经退火处理的Ni膜发生了重融再生长，形成了大颗粒结晶，膜内晶粒内缺陷大量消失．