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用化学镀方法获得含ＴｉＢ２９～１０ｗｔ％的Ｎｉ－Ｐ－ＴｉＢ２复合镀层，沉积速度为１５μｍ／ｈ，讨论了工艺条件对沉积速度和镀层中ＴｉＢ２含量的影响。
化学镀Ni—P—TiB2
【摘 要】
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用化学镀方法获得含ＴｉＢ２９～１０ｗｔ％的Ｎｉ－Ｐ－ＴｉＢ２复合镀层，沉积速度为１５μｍ／ｈ，讨论了工艺条件对沉积速度和镀层中ＴｉＢ２含量的影响。
【机 构】
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中南工业大学
【出 处】
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电镀与涂饰
【发表日期】
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1995年4期
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