【摘 要】
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提出一种可同时测量膜厚和折射率的新型快速高灵敏度薄膜测量方法——外差椭偏纳米薄膜测量技术，并给出了理论分析与设计、实验结果和误差分析．采用弱磁场塞曼激光器（输出４０ｋＨｚ的拍频
【机 构】
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深圳大学工程技术学院,中国计量科学研究院
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提出一种可同时测量膜厚和折射率的新型快速高灵敏度薄膜测量方法——外差椭偏纳米薄膜测量技术，并给出了理论分析与设计、实验结果和误差分析．采用弱磁场塞曼激光器（输出４０ｋＨｚ的拍频信号），用相位直接比较法得到０．１８°分辨率，是迄今结构最简单的新型椭偏仪设计．测量过程高速全自动化，适合于现场连续测量．理论上可达到较高的测量精度．
A new rapid and sensitive method for measuring thin film thickness and refractive index, called heterodyne ellipsometry, is proposed. The theoretical analysis and design, experimental results and error analysis are given. The use of weak magnetic Zeeman laser (40kHz output beat signal), the direct phase comparison obtained 0.18 ° resolution, is by far the most simple structure of the new ellipsometer design. High-speed measurement process fully automated, suitable for on-site continuous measurement. In theory, higher measurement accuracy can be achieved.
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