【摘 要】
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一、前言 RF溅射法具有容易加工高融点材料的薄膜,薄膜在基片上附着力强等特点。特别是最近,磁控溅射法的沉积速度比过去大一个数量级1),这不仅用于研究方面,而且已经开始广
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一、前言 RF溅射法具有容易加工高融点材料的薄膜,薄膜在基片上附着力强等特点。特别是最近,磁控溅射法的沉积速度比过去大一个数量级1),这不仅用于研究方面,而且已经开始广泛地用于实际的设备制造中。但是市场出买的商品RF溅射装置太贵,小规模实验若能得到一个简单的装置就行?
I. Introduction RF sputtering method has the advantages of easy processing high melting point film material, the film on the substrate adhesion and so on. In particular, magnetron sputtering has recently been deposited at an order of magnitude faster than in the past1), not only for research purposes but also widely used in practical apparatus manufacture. However, RF sputter devices are too expensive to buy in the market. If a small-scale experiment can get a simple device?
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