一种用于类金刚石镀膜的矩形离子源

• 作 者: 夏先春 高强
• 机 构: 苏州大学机电工程学院
• 出 处: 中小企业管理与科技(下旬刊)
• 发表日期: 2016年21期
• 关键词: 离子源辅助沉积 磁场 DLC(类金刚石膜) 功能性镀膜

本文介绍了一款自主研制的用于模具,工具以及医疗器具等要求功能性镀膜的离子源,并论述了其工作原理,此离子源具有大束流、低能量和大辐照面积等优点。利用该源,采用离子束辅助沉积的方法,在SUS304材料基体上制备DLC（类金刚石）薄膜。并对离子源的永磁场强度进行了研究和分析。实验结果表明,该源的离子流分布均匀性较好,制备的DLC（类金刚石）薄膜摩擦系数小、硬度高、耐磨性好、耐高温、化学性能稳定。