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<正> 自从Canham观察到多孔硅(PS)的可见光致发光后,由于其可望成为可与Ⅲ—Ⅴ族半导体材料相媲美的新型光电子材料而引起了科学界极大的兴趣.目前,制备多孔硅一般都采用电化学腐蚀方法. 本文首次报导用激光束照射制备多孔硅的一种新方法.这种方法与通常采用的电化学腐蚀法不同,不用制备电极、不用通电流、只要把激光束照射到浸在HF水溶液或HF+C_2H_5OH溶液中的硅样品表面上,就在被激光束照射处形成多孔硅.通过选择激光束