2000年IEEE国际可靠性物理年会论文集论文摘要(1)

来源 :电子产品可靠性与环境试验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:TSSSP
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180新千年中硅技术的方向(KEYNOTE:Sili-con Technology Directions in the New Millennium)-——2000 International Reliability Physics Symposiumpp.1-6.硅技术虽然在30多年来都在以指数速率发展,但目前却正处在一个十字路口。传统的CMOS器件正快速地接近性能饱和和密度饱和。但无论如 The direction of silicon technology in the new millennium (KEYNOTE: Sili-con Technology Directions in the New Millennium) - 2000 International Reliability Physics Symposium 1.6 - Although silicon technology has been developing at an exponential rate for over 30 years, It is at a crossroads. Traditional CMOS devices are rapidly approaching performance saturation and density saturation. But no matter what
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