【摘 要】
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采用旋涂法制备了氧化锆介质层薄膜,重点讨论了退火温度以及旋涂转速对薄膜性能的影响及作用机制。研究发现高温后退火一方面使得氧化锆水合物脱水形成氧化锆,另一方面促使氧
【机 构】
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高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室华南理工大学材料科学与工程学院; 华南农业大学电子工程学院;
【基金项目】
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国家重点研发计划专项(2016YFB0401504);国家自然科学基金重大集成项目(U1601651);973国家重点基础研究发展规划(2015CB655004);广东省自然科学基金(2016A030313459);广东省科技计划(2014B090915004,2015B090914003,2016A040403037,2016B090907001,2016B090906002);中央高校基本
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采用旋涂法制备了氧化锆介质层薄膜,重点讨论了退火温度以及旋涂转速对薄膜性能的影响及作用机制。研究发现高温后退火一方面使得氧化锆水合物脱水形成氧化锆,另一方面促使氧化锆薄膜结晶。此外,转速较高时,其变化对薄膜厚度及粗糙度无显著影响。当转速为5 000 r/min、退火温度为300℃时,制备的绝缘层厚度具有良好的厚度均匀性,粗糙度为0.7 nm,漏电流为3.13×10-5A/cm2(电场强度1 MV/cm)。最终,利用Zr O2薄膜作为栅极绝缘层,在玻璃基板上制备了铟镓锌氧化物-薄膜晶体管(IGZO-TFT),其迁移率为6.5 cm2/(V·s),开关比为2×104。
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