【摘 要】
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本文叙述了辉光放电气相沉积氮化钛薄膜的工艺。它具有物理气相沉积与化学气相沉积的综合特点。在此工艺中,辉光放电作为化学反应和沉积的介质,通过等离子体的激活作用,可在
【机 构】
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内蒙古金属材料研究所,内蒙古金属材料研究所,
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本文叙述了辉光放电气相沉积氮化钛薄膜的工艺。它具有物理气相沉积与化学气相沉积的综合特点。在此工艺中,辉光放电作为化学反应和沉积的介质,通过等离子体的激活作用,可在低气压下直流辉光放电的工件(阴极)表面上获得化合物薄膜。已在工艺实验中,工件表面上沉积了致密的氮化钛涂层。此工艺的沉积温度低、沉积速率较高。
This article describes the process of glow discharge vapor deposition of titanium nitride thin films. It has a combination of physical vapor deposition and chemical vapor deposition. In this process, glow discharge is used as a chemical reaction and deposition medium to obtain a compound thin film on the surface of a workpiece (cathode) subjected to direct current glow discharge under a low pressure by the activation of a plasma. In process experiments, dense titanium nitride coatings have been deposited on the surface of workpieces. The process of deposition temperature is low, the deposition rate is higher.
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