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用椭圆偏振法研究了镍在硼酸盐缓冲溶液中,于初始钝化处(-0.5V,SCE)、稳定钝化处(0.4V)和钝化/过钝化交界处(0.8V)恒电位阳极极化时所生成的钝化膜。分析了钝化膜的厚度、生长动力学规律、成份和生长机理。结果表明:钝化膜的厚度、成份和生长机理都与外加电位有关;在所研究的电位下,钝化膜都具有双层结构;膜生长都先生成外层膜,随后在其下面再生成一层内层膜;内层膜的生长都服从线性规律,外层膜的生长规律分别为线性规律、抛物线规律和对数规律。