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采用4KW半导体激光熔覆工艺,在42CrMo基体上制造铁基非晶合金熔覆层,熔覆层宏观形貌良好,无宏观气孔及裂纹;通过1.5KW,1.8KW,2KW三种激光功率试验,使用扫描电子显微镜对熔覆层组织及物相进行分析,表明功率1.8KW试样微观组织分布均匀且孔洞较少;通过硬度测试,发现1.8KW试样硬度值分布比较均匀,硬度曲线相对坡度较小,平均硬度为766.7HV。