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为了研究退火温度对HfO2薄膜应力、光学常数和表面粗糙度的影响，采用电子枪蒸镀法制备了薄膜样品，在不同温度下进行了退火处理。利用ZYGO干涉仪、uV一3101PC分光光度计、X射线衍射仪和冷场发射扫描电镜对样品进行了测试。结果表明，在本实验条件下制备的HfO：薄膜都是无定形结构；残余应力均为张应力，且随退火温度的升高呈先减小后增大现象，在300℃退火条件下具有最小应力；HfO2薄膜折射率随退火温度的升高而增大，并且色散减小；低温退火可以提高HfO2薄膜的平整度，高温退火反而会使HfO2薄膜表面粗糙度增加。