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本文报道了对反应磁近溅射技术沉积的ＩＴＯ透明导电膜进行Ｘ射线衍射结构分析的结果，给出了不同条件下ＩＴＯ膜的晶态结构和它与各种成膜工艺条件之间的关系。
反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析
【摘 要】
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本文报道了对反应磁近溅射技术沉积的ＩＴＯ透明导电膜进行Ｘ射线衍射结构分析的结果，给出了不同条件下ＩＴＯ膜的晶态结构和它与各种成膜工艺条件之间的关系。
【机 构】
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东南大学薄膜研究所
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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1996年2期
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