熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术

• 作 者: 叶鑫 黄进 王凤蕊 程强 刘红婕 周信达 孙来喜 张振 蒋晓
• 机 构: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2013年12期
• 关键词: 熔石英 损伤前驱体 氢氟酸 损伤性能 fused silica laser damage precursors HF damage properties
• 基金项目: 国家自然科学基金项目（60908023,61078075）,中国工程物理研究院发展基金项目（201080401055）

基于抛光所引起的熔石英元件表面、亚表面所存在的损伤前驱体分布，研究了不同种类的损伤前驱体所引起的损伤形貌。然后根据小同种类的损伤前驱体分别采用表面活性剂、强氧化性酸、氢氟酸的水溶液对不同的损伤前驱体进行处理。研究结果屁示：经过前期预先清洗以后，吸收性杂质所导致的雾状损伤得以消除，亚表面分布的裂纹得以很好地平滑钝化，极大地提升了熔石英光学元件的抗损伤性能，损伤阈值从4．8J／cm^2提高到11．0J／cm^2，最大提升幅度达到原来的2．3倍。