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本文介绍了自组生长硅纳米管的制备，并采用5wt％的HF酸对其稳定性进行了研究。HF酸可去除自组生跃硅纳米管的氧化物外层，只剩下晶体硅纳米管。这说明制备的砗纳米管是一种稳定结构，因而对其应用研究开发成为可能。研究表明，硅纳米管的稳定性与其形成生长过程密切相关。自组生长硅纳米管在纳米器件及场发射甚示屏等方面具有广泛的应用前景。