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以不同钛掺杂含量的氧化锌陶瓷靶作为溅射源材料,采用射频磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了Ti掺ZnO（TZO）透明导电薄膜,通过XRD、XPS、分光光度计和霍尔效应测试系统,研究了钛掺杂含量对TZO薄膜微观结构和光电特性的影响。结果表明：所有TZO薄膜均为六角纤锌矿结构,并且具有（002）择优取向,钛掺杂含量对薄膜性能具有明显的影响。当钛掺杂含量为3wt%时,TZO薄膜的结晶质量最好、可见光平均透过率最高、电阻率最低、品质因数最大（748.15 S/cm）,具有最佳的光电综合性能。TZO薄膜的光学带隙随钛掺杂