【摘 要】
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近紫外光曝光设备的极限分辨率一般为1μm,制作1μm以下的器件似乎只有采用价格昂贵、技术复杂的远紫外或其它非光源的辐射(如电子束、X射线、离子束)设备了.但若以多层胶工
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近紫外光曝光设备的极限分辨率一般为1μm,制作1μm以下的器件似乎只有采用价格昂贵、技术复杂的远紫外或其它非光源的辐射(如电子束、X射线、离子束)设备了.但若以多层胶工艺(PCM技术)和两次曝光监测(即DEEPDET)技术就可突破这种限制.前者已有报导,后者简介如下:于涂有适当厚度正胶
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