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本文报道了在PCVD设备中用固态AlCl3源成功地制备出（TiAl)N膜。结果表明，（TiAl)膜的含Al量与AlCl3源的温度成正比，而膜内C含量则无明显变化。（TiAl)N膜保持了TiN膜的面心立方晶体结构，但其d(200)晶面间距变小，织构变弱，晶粒略有细化，（TiAl)N膜的显微硬度略高于或等于TiN膜的硬度，而其抗高温氧化性有较大幅度提高。