CO2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值

• 作 者: 李绪平 祖小涛 袁晓东 蒋晓东 吕海兵 郑万国 唐灿 李珂 向霞 郭袁俊 徐世珍 袁兆林
• 机 构: 电子科技大学物理电子学院,电子科技大学物理电子学院,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国工程物理研究院激光聚变研究中心,中国
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2007年10期
• 关键词: 石英基片 硅油脂 激光清洗 等离子体清洗 激光损伤阈值

采用连续CO2激光和真空等离子体相结合的方法对石英基片进行清洗。通过光学显微图、水接触角、透过率和损伤阈值测量分别表征了CO2激光和等离子体对真空硅脂蒸发物污染过的石英基片的清洗效果。研究表明:对于真空硅脂蒸发物污染后的石英基片,可以先采用低能量的CO2激光进行大面积清洗,再用真空等离子体进行精细清洗。光学显微图像表明:清洗后的基片表面的油珠被清除干净;水滴接触角由63°下降到4°;在400 nm附近,基片透过率由92.3%上升到93.3%;损伤阈值由3.77 J/cm2上升到5.09 J/cm2。