制取高浓度臭氧超净水方法及其设备

• 作 者: 白敏菂 何叶 杨波
• 机 构: 大连海事大学理学院
• 出 处: 电子工业专用设备
• 发表日期: 2018年5期
• 关键词: 清洗硅片表面 臭氧超净水 超窄间隙介质阻挡电离放电 等离子体源 气液溶解混合
• 基金项目: 国家高技术研究发展计划(863)(2008AA06Z317);国家自然科基金资助项目(61371027、507778028、50578020、61671100)

采用超窄间隙介质阻挡电离放电方法将氧离解、电离、电离离解成低温氧等离子体，其中O-和 O2（a1驻g）等活性粒子在电场中反应生成高浓度臭氧 O3，臭氧浓度达到 286 mg/L。臭氧产生设备输出高浓度臭氧输送给气液溶解混合装置， 将高浓度臭氧强激励溶解于超净水中形成高浓度臭氧超净水，仅用 3 min 其浓度达到 54.6 mg/L。 所形成高浓度超净臭氧水将把硅片表面颗粒物、金属离子、粘附有机物、自然氧化膜等消除掉。 解决硅片表面存在的质量技术问题。