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半导体材料与技术是现代信息技术发展的基石,以硅(Si)和砷化镓(GaAs)材料为代表第1代、第3代半导体技术,奠定了20世纪微电子和光电子工业的基础,极大地推动了社会的进步和变革。随着技术的发展,传统的Si和GaAs半导体器件性能已接近其材料本身决定的理论极限。因此第3代半导体材料(即宽禁带半导体材料,禁带宽度大于2.2eV)正日益受到人们的重视。