【摘 要】
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利用分子束外延方法研制的ＩｎＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ应变量子阱激光器外延材料制备了窄条型脊型波导结构量子阱激光器件．通过对其５０℃高温加速老化，检测了器件的可靠性，并对器件中存在的三种典型退化行为，即
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利用分子束外延方法研制的ＩｎＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ应变量子阱激光器外延材料制备了窄条型脊型波导结构量子阱激光器件．通过对其５０℃高温加速老化，检测了器件的可靠性，并对器件中存在的三种典型退化行为，即快速退化、慢退化和端面光学灾变损伤进行了分析与研究．
A narrow-band ridge waveguide structure quantum well laser device is fabricated by using InGaAs / AlGaAs strained quantum well laser epitaxial material developed by molecular beam epitaxy. The reliability of the device was tested by accelerated aging at 50 ℃. Three typical degenerative behaviors in the device, namely rapid degradation, slow degradation and end-face optical catastrophic damage, were analyzed and studied.
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