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X衍射法分析CVD制备SnO_2多晶膜的构成及其对气敏特性的影响
X衍射法分析CVD制备SnO_2多晶膜的构成及其对气敏特性的影响
来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jordanfandemin
【摘 要】
:
通过X光衍射图分析,确认了较低温度下CVD法生长的非掺杂SnO2晶膜含有较多的偏离SnO2配位的晶体成分,从而定性地解释了该晶膜具有较高的气体敏感度的现象。
【作 者】
:
颜永美
蔡玉霜
【出 处】
:
固体电子学研究与进展
【发表日期】
:
1995年2期
【关键词】
:
X光衍射法
晶膜构成
气体敏感度
二氧化锡
CVD法
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通过X光衍射图分析,确认了较低温度下CVD法生长的非掺杂SnO2晶膜含有较多的偏离SnO2配位的晶体成分,从而定性地解释了该晶膜具有较高的气体敏感度的现象。
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