水溶液与离子液体中钛基电镀铜过程研究

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研究了在水溶液和离子液体中分别电镀铜,探究了添加剂、电流密度、电镀时间对镀层的影响,并通过扫描电子显微镜、元素能谱分析以及循环伏安法对电镀其进行表征。结果表明,在水溶液中电镀铜的最佳工艺条件为:聚乙二醇和烷基酚聚氧乙烯醚作为添加剂,电流密度30 mA/cm2,电镀时间60 min;在离子液体中电镀铜的最佳工艺条件为:聚乙二醇和烷基酚聚氧乙烯醚作为添加剂,电流密度30 mA/cm2,电镀时间50 min。通过比较发现,在离子液体中镀铜排除了氢干扰,比在水溶液中镀铜具有显著的优势。
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