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从热力学角度建立了ＭｏＳｉ２氧化相的低温化学稳定性图，并对实验现象进行了分析。建立的ＭｏＳｉ２氧化相的低温化学稳定性图阐明了ＭｏＳｉ２材料低温氧化生成物与温度、氧分压之间的关系；可较好地解释实验现象和结果；并指出减少ＭｏＳｉ２材料的内部缺陷，使扩散至界面的氧分压维持较低数值，可避免生成挥发性ＭｏＯ３相，从而防止材料的“ＰＥＳＴ”现象。