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半导体致冷电对金属化层粘接强度的研究
半导体致冷电对金属化层粘接强度的研究
来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhizu81748
【摘 要】
:
试验研究了三种半导体致冷电对金属化系统的拉伸强度,其中铋-镍-锡金属化系统与半导体致冷材料粘接强度最高,超过原始棒状材料的拉伸强度,它是半导体致冷器电对的最好的金属化系统
【作 者】
:
刘振茂
赵秀平
【机 构】
:
哈尔滨工业大学微电子技术教研室
【出 处】
:
哈尔滨工业大学学报
【发表日期】
:
1994年5期
【关键词】
:
金属化层
粘接强度
半导体
致冷材料
Thermoelectric cooling couple metallization metallized layer
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试验研究了三种半导体致冷电对金属化系统的拉伸强度,其中铋-镍-锡金属化系统与半导体致冷材料粘接强度最高,超过原始棒状材料的拉伸强度,它是半导体致冷器电对的最好的金属化系统。
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