【摘 要】
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大日本印刷与美国Molecular Imprints就在推进22nm级以后纳米压印技术实用化进程中建立战略性合作关系达成了一致。纳米压印技术与ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技术相比,可削
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大日本印刷与美国Molecular Imprints就在推进22nm级以后纳米压印技术实用化进程中建立战略性合作关系达成了一致。纳米压印技术与ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技术相比,可削减设备成本。但因其是用模板压模后转印电路图形,所以量产时需要定期更换模板。因此,该公司希望成本能比
Dainippon Printing and American Molecular Imprints reached an agreement on establishing strategic cooperation in the practical application of nanoimprint technology after 22nm. Nano-imprint technology and ArF immersion lithography and EUV exposure lithography compared to the equipment costs can be reduced. But because it is a template stamping after the transfer circuit graphics, so the need to regularly change the mass production of the template. Therefore, the company hopes to cost more than
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