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报道了采用反应电子束蒸发技术制备优质氧化锌透明导电膜的工艺和结果。典型的结果：电阻率低达２×１０－４Ω．ｃｍ，霍尔电子迁移率为５２ｃｍ２（Ｖｓ）－１，厚４０００×１０－１０ｍ膜的方块电阻为８．９Ω／□，可见光透过率大于９０％。分析了源掺杂、镀膜气氛、衬底温度等参数与膜的电导和透光特性的关系。
优质氧化锌透明导电膜
【摘 要】
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报道了采用反应电子束蒸发技术制备优质氧化锌透明导电膜的工艺和结果。典型的结果：电阻率低达２×１０－４Ω．ｃｍ，霍尔电子迁移率为５２ｃｍ２（Ｖｓ）－１，厚４０００×１０－１０ｍ膜的方块电阻为８．９Ω／□，可见光透过率大于９０％。分析了
【机 构】
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北京有色金属研究总院
【出 处】
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太阳能学报
【发表日期】
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1995年3期
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