【摘 要】
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采用调节蒸发条件以沉淀出纯洁的一氧化硅的方法,已在熔凝石英、玻璃、岩盐和具有高反射性能的铝表面上获得一系列厚度从0.03到10μ的薄膜。这些薄膜在0.24到14μ范围的光学
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采用调节蒸发条件以沉淀出纯洁的一氧化硅的方法,已在熔凝石英、玻璃、岩盐和具有高反射性能的铝表面上获得一系列厚度从0.03到10μ的薄膜。这些薄膜在0.24到14μ范围的光学常数,由其反射率,透射率及厚度测量计算出来,一氧化硅薄膜在紫外直到可见光的范围内具有很强的吸收性,红外的最大吸收值在10μ,这与在熔凝石英中的最大吸收点有很大不同。在0.4到0.7μ范围内,SiO的折射指数随
Using a method of adjusting the evaporation conditions to precipitate pure silicon oxide, a series of thin films having thicknesses from 0.03 to 10 microns have been obtained on fused quartz, glass, rock salt and aluminum surfaces with high reflectivity. The optical constants of these films in the range of 0.24 to 14 μ are calculated from their reflectance, transmittance and thickness measurements. The silicon monoxide films have strong absorbance in the ultraviolet to visible range, the maximum absorption of infrared at 10 μ, This is very different from the maximum absorption point in fused quartz. In the range of 0.4 to 0.7 μ, the refractive index of SiO varies
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