工业硅酸浸去除金属杂质钙

• 作 者: 麦毅 马文会 谢克强 唐建文
• 机 构: 昆明理工大学真空冶金国家工程重点实验室,昆明理工大学冶金与能源工程学院
• 出 处: 中国有色冶金
• 发表日期: 2013年3期
• 关键词: 工业硅 酸浸 除钙
• 基金项目: NSFC-云南省联合基金项目(U1137601)资助;云南省自然科学基金项目(2010CD025)资助

研究了HF-HCl浸出剂体系中，HF含量、HCl含量、浸出时间和硅粉粒度等因素对除钙的影响。结果表明，HF含量是最主要的影响因素；在2％HF-3％HCl、室温20℃、5h的最佳条件下，钙的去除率达到84．5％；在HF-HCl浸出剂体系中，CaF2的形成降低了钙的去除率。电子显微镜和能谱分析发现，工业硅中存在含钙四元系金属间化合物Si8Al6Fe4Ca，该化合物易被低浓度氢氟酸去除。