【摘 要】
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全球材料、应用技术及服务的综合供应商——美国道康宁公司与东京应用化学工业(Tokyo Ohka Ko-gyo,TOK)日前宣布,双方已合作开发并在市场上推出新的双层光阻。这种新材料将硅
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全球材料、应用技术及服务的综合供应商——美国道康宁公司与东京应用化学工业(Tokyo Ohka Ko-gyo,TOK)日前宣布,双方已合作开发并在市场上推出新的双层光阻。这种新材料将硅聚合物用于成像层(i maginglayer)以提高蚀刻选择性,满足65 nm和更先进制程的微影要求。由于新光阻的高
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