【摘 要】
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本文提出了一种用实验设计与模拟相结合对ＣＭＯＳ集成电路参数进行统计优化设计的方法，分析工艺因素设置及其起伏对电路参数的影响，建立起电路参数相对主要工艺因素变化的宏模型，并用模
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本文提出了一种用实验设计与模拟相结合对ＣＭＯＳ集成电路参数进行统计优化设计的方法，分析工艺因素设置及其起伏对电路参数的影响，建立起电路参数相对主要工艺因素变化的宏模型，并用模型公式找出使电路参数在预期值附近且偏差最小的优化工艺条件．
In this paper, a method of statistical optimization of CMOS integrated circuit parameters is proposed by combining experimental design and simulation. The influence of process factor setting and its fluctuation on circuit parameters is analyzed. A macromodel is established to change the main technological factors of circuit parameters. And use the model formula to find out the circuit parameters in the expected value and the minimum deviation of the optimal process conditions.
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