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【摘 要】
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分析了磁光记录技术的发展趋势，研究了磁光盘的结构及溅射工艺，研究成功了宽温（使用范围－２０￣＋６０℃、高湿６０％￣９５％ＲＨ）抗恶劣环境的磁光盘。
【机 构】
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华中理工大学
【出 处】
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磁记录材料
【发表日期】
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1997年3期
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