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分析和研究了硅片颗粒污染情况、洁净室颗粒行为，且计算了硅片表面颗粒沉降量，以确定不同规格硅片相应的生产洁等级。
浅析洁净度与硅片表面性质
【摘 要】
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分析和研究了硅片颗粒污染情况、洁净室颗粒行为，且计算了硅片表面颗粒沉降量，以确定不同规格硅片相应的生产洁等级。
【出 处】
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电子材料（机电部）
【发表日期】
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1995年11期
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