新型等离子CVD涂层装置

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据外刊报道,一种涂复可转位刀片用的新型等离子化学气相沉积(CVD)装置已由Krupp Wida公司研制成功并在最近投入使用。这种用等离子CVD法涂复可转位刀片目前在世界上尚属首家使用的新工 According to foreign media reports, a coating of indexable inserts with a new plasma CVD device has been successfully developed by Krupp Wida and recently put into use. This plasma CVD method for indexable inserts is currently the first new job in the world to be used
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