【摘 要】
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阴极电弧技术(cathode arc technology)具有真空蒸镀及溅射镀膜的优点,目前而言该技术还在被不断地研究与发展。文章介绍了阴极电弧技术及其特点,分析了该技术制备的Ti Al N
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阴极电弧技术(cathode arc technology)具有真空蒸镀及溅射镀膜的优点,目前而言该技术还在被不断地研究与发展。文章介绍了阴极电弧技术及其特点,分析了该技术制备的Ti Al N与Ti Al Si N涂层的微观结构以及元素的存在形式,并举例说明该技术制备的Ti Al N与Ti Al Si N涂层的物理性能及其应用。
Cathode arc technology (cathode arc technology) has the advantages of vacuum evaporation and sputter coating, the technology is still being constantly research and development. In this paper, the cathodic arc technique and its characteristics are introduced. The microstructure of TiAlN and TiAlSiN coatings prepared by this technique are analyzed. The existing forms of TiAlN and TiAlSiN coatings are also illustrated. The TiAlN and TiAlSiN Physical properties of coatings and their applications.
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