N_2O在Ni表面上吸附态的X-射线光电子能谱(XPS)研究

• 作 者: 王当憨
• 机 构: 中国科学院化学研究所,
• 出 处: 分子科学与化学研究
• 发表日期: 1982年03期
• 关键词: 吸附态 N_2O Ni XPS 相互作用体系 电荷分布 原子级 原子 脱附 相互作用

前言近十几年来,简单气体分子在金属表面吸附态的基础理论研究,由于 XPS 的问世而进入一个崭新的发展阶段.XPS 能在分子及原子水平上直接探测表面吸附态元素的组成及元素价态、分子及原子的化学结构和电荷分布.本文将报告 N_2O 气体分子与“原子级清洁”Ni 表面间的相互作用.在此之前 Brundle 已用 XPS 对这一相互作用体系进行了研究.他提出 Ni 在80K吸附 N_2O 气体分子后,在表面仅有 N_2O 分子吸附态.若加温至290K 后,N_2O 分子脱附,